台下方的“曝光窗口”。

同时通过“双台并行”模式，即一个加工、另一个准备，进而提升加工效率。

简单来说，二者的关系类似“打印机纸盘”与“墨盒”。

双工件台就像可移动的纸盘，带着纸张找打印位置，掩膜台像固定且精准的硒鼓和墨盒，带着图案掩膜版准备打印，只有两者对准时，才能把图案清晰印在纸上。

尽管功能不同，但超精密双工件台与掩膜台的技术要求高度相似，都需要对运动控制达到纳米级水准。

因此，在拥有了掩膜台的基础工艺后，双工件台的那些技术难点，完全是可以逐一攻破的。

国产EUV光刻机的曙光乍现！

陈延森看到林南等人在研发上进展顺利，随即把后续的反射式掩膜基板、掩膜防护层和对准调平系统等项目环节，分拆为三组同步推进。

他自己则着手研发光刻算法软件，它的核心作用是补偿光学像差、掩膜三维效应等，并控制整个曝光流程。

随着研发工作的深入，星源科技光学研发部的员工数量，也在极速攀升。

七月最后一天的下午，陈延森喊来梁劲松、林南等人交代一番后，便乘车前往机场，转乘私人飞机朝着深城的方向飞去。

深蓝科技将召开2014年采购洽谈会的消息不胫而走，不少人第一反应就是：深蓝电池这是要推出第二代产品了吧？

当晚七点半，一架湾流 G550公务客机降落在深城机场。